お客様独自の測定にも対応しております。お気軽にお問い合わせください。











◆メニュー

≪その他の測定≫
・レジストはく離液によるレジストはく離評価
・レジスト分子量の違いによる解像性の評価
・最適PEB温度の検討
・感光剤濃度の違いによる解像性の評価
・HMDSによる反射防止効果の検討

≪受託試作≫
・Crグレースケールマスクの製作
・アウトガス捕集分析装置の試作




会社名
氏名
メール
アドレス
お問合せ
内容




Copyright 2008-2010 リソテックジャパン(株)アナリシス・サイエンス・グループ. All Rights Reserved.
PDS by tassket