半導体研究開発分野の測定・分析・評価サービス

ArF液浸露光では、レジスト膜またはトップコート（TC）が液浸液に接した際の溶出物質が問題となります。
オランダASML社は2007年11月、その許容基準を発表。また、ベルギーIMECにて測定手法（WEXA法）が発表されました。
当社ではいち早くWEXAを装置化し、受託測定を開始しました。

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◆詳細レポート

液浸Leaching分析の詳細については、こちらのレポートをご覧ください。

◆測定メニュー

・液浸液接触（未露光）によるLeaching物質の分析_アニオン、カチオン
・液浸液接触（未露光）によるLeaching物質の分析_TCVOC、TCNVOC
・液浸露光（193nm液浸露光）によるLeaching物質の分析_アニオン、カチオン
・液浸露光（193nm液浸露光）によるLeaching物質の分析_TCVOC、TCNVOC

◆測定装置

【WEXAシステム】

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